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Die CVD Beschichtung (Chemical Vapour Deposition) gehört zu den Beschichtungsverfahren der Metallbearbeitung und umfasst eine ganze Reihe an Verfahren, die die chemische Gasphasenabscheidung zum Aufbringen einer Beschichtung nutzen. Das Beschichtungsverfahren wird von Unternehmen wie Cemecon oder Coatec hauptsächlich zum Beschichten von mikroelektronischen Komponenten oder Lichtwellenleitern verwendet und wurde bereits 1852 vom deutschen Chemiker Robert Wilhelm Bunsen benutzt. Das technische Prinzip der Gasphasenabscheidung basiert auf einer chemischen Reaktion, die auf der erhitzten Oberfläche des zu beschichtenden Werkstücks abläuft. Das zur Beschichtung verwendete Substrat scheidet aus der Gasphase eine Feststoffkomponente aus, sobald eine bestimmte Reaktionstemperatur erreicht wird. Damit die Reaktion der Gasabscheidung gefördert wird, läuft das Verfahren in der Regel unter einem reduzierten Druck von 1 bis 1.000 Pa ab. Eines der wesentlichen Merkmale der CVD Beschichtung ist die konforme Abscheidung der Schichtwerkstoffe, die das Verfahren auch für die Behandlung komplexer dreidimensionaler Körper geeignet macht. Neben dem klassischen CVD Beschichten setzen Unternehmen wie Cemecon, CeWOTec, Eifeler oder Coatec auch Varianten wie das plasmaunterstützte PECVD oder PVD ein. Als Schichtwerkstoffe kommen beispielsweise Titannitrid (TiN), Titancarbid (TiC) oder Diamantschichten zum Einsatz. Weitere Beschichtungsverfahren sind unter anderem Schmelztauchen , Thermisches Spritzen , Pulverbeschichten , Chromatieren , Verzinken sowie die Plasmabeschichtung .
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